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桌面型射頻磁控濺射鍍...本設備為射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。
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小型自動流延干燥涂布...自動流延式涂布機廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展。 自動流延涂布機勻速**推進刮刀（線棒）進行涂膜，獲得平滑均勻的涂布效果。涂布刮刀（線棒）的速度可根據需要進行控制調節?；牟捎谜婵瘴焦潭?，涂層過程中基材無褶皺，涂層更光滑。涂膜后頂部上蓋可對薄膜進行加熱干燥，控溫精度為±1℃。特別適用于固體電解質和鋰電池電極的制備。
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小型加熱涂布機產品簡介:本產品廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展。該產品通過CE認證。 主要特點: 1、強風加熱和數字顯示溫度控制的烘干系統，*高工作溫度200C; 2、涂膜速度在0~ 100mm/秒范圍內可調，并且帶數字 顯示; 3、真空鋁盤，可快速放置或取下基片; 4、在10~ 250mm之間可通過行程開關調整行程; 5、帶調整涂膜厚度(精度0. 02mm)寬 度0-150mm的刮刀;
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透明亞克力勻膠機帶滴...CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計，整體采用鋁合金結構，腔體選用透明亞克力，外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機，*高轉速能達到8000轉/秒；控制依靠按鍵和高亮液晶屏，除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能，十分適合實驗室選購。
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PP腔體八英寸勻膠機本型號勻膠機經過小型化設計，整體采用鋁合金結構，腔體選用PP工程材料，外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機，轉速能達到10000轉/分，有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制，可以預設勻膠曲線，大大簡化了使用過程降低了學習成本，十分適合實驗室選購。
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亞克力八英寸勻膠機本型號勻膠機經過小型化設計，整體采用鋁合金結構，腔體選用透明亞克力，外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機，轉速能達到10000轉/分，有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制，可以預設勻膠曲線，大大簡化了使用過程降低了學習成本，十分適合實驗室選購。
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PE-HPCVD等離...PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐，一套鎢絲蒸發源，一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積適用于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆。
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PECVD鍍膜儀CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
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單溫區旋轉PECVD...單溫區旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調節轉速來更改?？蓪崿F在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用PECVD方法進行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護環境下對處理好的料粉進行收集。 設備配有100W頻率13.56MHz的視頻電源。能夠在真空中產生等離子體。高能等離子體能夠活化樣品表面，有效的增強反應效果，提高反應速率，這種輔助方法廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上。 本設備特別適合顆粒型樣品實驗，通過機械傳動能夠控制工作管360°不間斷連續旋轉，轉速可調，使得管內物料不斷的被攪拌混合，充分與氣體和等離子體接觸，使樣品的反應更加均勻穩定。
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碳鎢蒸發等離子濺射復...碳鎢蒸發等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理，碳鎢蒸發等離子濺射復合鍍膜儀采用機械泵和分子泵，實現高真空。
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雙靶磁控及蒸發復合鍍...雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規管，進氣系統和控制系統組成。雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。
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等離子濺射和蒸發二合...等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小，節省空間，能夠置于試驗臺上使用，一機多用，性價比突出，非常適合各大高校及研究機構選用。
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